实验室多弧离子镀膜仪-硬质薄膜

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摘要:多弧离子镀膜仪CY-MIOP500S-2TA离子镀把辉光放电现象、等离子体技术和真空蒸发三者有机结合起来，不仅能明显地改进了膜质量，而且还扩大了薄膜的应用范围。其具有蒸镀速率快，薄膜附着力强，绕射性好，膜材广泛等优点。十分适合镀硬质保护膜如TiN等。同时由于其通过控制气氛可以改变膜层颜色，且膜层与基板结合牢固，故也可用于制作多种颜色的装饰性膜。多弧离子镀是利用气体放电或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反应物沉积在基片上。本设备配有两个多弧靶，分置于腔体两侧。配合行星式样品台可有效的提高镀膜效率，改善成效果。该镀膜仪还采用一体化设计，腔体和电控部分左右分置。多弧离子镀膜真空腔体进气系统供电要求控制方式多弧靶样品台真空系统水冷不锈钢腔体φ500mmX490mm（H）前开门式，配有φ100mm石英观察窗内置两组红外加热灯，可对腔体烘烤除气预留多个CF接口，可安装多路膜厚仪质量流量计Ar气0~200sccm，N2气0~200sccm其他流量或者气体可定制AC220V50Hz10kW15英寸触控屏组态控制软件数量规格3英寸x2安装方式腔体侧方对置0~150A工作电流靶材厚度规格可悬挂样品数转速产品型号分子泵前极泵抽气速率极限真空抽气接口排气接口真空测量50mm，最低20mm行星式挂架每支挂架上6个挂点，共计6个挂架公转转速1~20rpmCY-GZK103-A涡轮分子泵双极旋片泵分子泵：6000L/S旋片泵：1.1L/S5×10E-4PaKF40KF16复合真空计综合抽气性能：30分钟真空度可达：5×10E-3Pa

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