实验室真空单靶射频磁控溅射镀膜仪

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摘要:单靶射频磁控镀膜仪CY-MSP300S-RF实验室专用镀膜仪，磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点，镀膜速率高，样品温升低，是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层，水冷机能够有效的带走热量，避免热量在靶面聚集，使磁控镀膜能长时间稳定工作。紧凑化设计，实现了体积与性能的平衡，造型美观功能全面。整机均采用触控屏控制，内置一键式镀膜程序，操作简单易上手，实验室制备薄膜的理想设备。选配直流电源和射频电源，功率从500W-1000W不等，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。单靶射频磁控溅射镀膜仪供电电压整机功率极限真空度尺寸加热温度载样台参数控温精度转速数量磁控溅射头参冷却方式数水冷机规格腔体尺寸腔体材料真空腔体观察窗口开启方式气体流量控制器真空泵膜厚仪溅射电源操作方式整机尺寸整机重量AC220V，50Hz6KW5x10-4Paφ150mm最高500℃±1℃1-20rpm可调1个，2”磁控溅射头水冷，所需流速10L/min10L/min流速的循环水冷机φ300mmX340mmH不锈钢φ100mm上顶开式，便于更换靶材1路200sccmAr；配有一套分子泵系统，抽速600L/S石英振动薄膜测厚仪一台，分辨率0.10Å射频电源，500W-1000W，适用于制备非金属膜一体机电脑操作1090mmX900mmX1250mm350kg

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