docx文档 集成电路2期

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摘要:注册资本超2000亿元!集成电路大基金2期将投向何方?(附A股)前两天,国家集成电路大基金1期要减持科技股的消息,牵动了A股投资者的心。不过,这对市场仅仅是短期的影响。相关个股如汇顶科技,兆易创新,国科微股价也仅仅是回调了一天,隔天便迅速回到原位。其实也不奇怪,大基金1期早在5年前成立之时就已经做了15年的规划,其中2019-2024年处于回收期,投资盈利退出很正常。况且,国家集成电路大基金2期已经来了。2019年10月22号,大基金2期成立,注册资本高达2041.5亿元!而1期不到1000亿元。如果考虑到基金对社会投资资金的带动,它对经济的促进影响还是积极的。那么,规模如此庞大的集成电路2期大基金,它将投向何方?1.投向设备方面。比如刻蚀机、薄膜设备、测试设备和清洗设备等领域,加快开展光刻机、化学机械研磨设备等核心设备以及关键零部件的投资布局。估算设备方面的投资额可达900亿元。目前与国外先进设备工艺相比,我们还有差距,比如光刻技术。我们经常说的芯片用的是多少纳米工艺,比如50nm,14nm,7nm,5nm等等,其实一般就是指光刻技术带来的差异了。我国普遍目前还处在14nm的工艺,和国际 上5nm的先进工艺还有差距。目前,世界上80%的光刻机市场被荷兰ASML公司占据。而在EUV光刻机领域,目前处于绝对垄断地位,市占率为100%,处于独家供货的状态。光刻机按照使用的光源不同,可以分为DUV光刻机和EUV光刻机。DUV是DeepUltraViolet,即深紫外光;EUV是ExtremeUltraViolet,即极紫外光。DUV光刻机的极限工艺节点是28n

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